Studie toont de route van afzetting van atomaire lagen aan naar schaalbare dunne films van tellurium van elektronische kwaliteit
Schaalbaarheid, beheersbaarheid en homogeniteit van op atomaire lagen afgezet tellurium (ALD-Te). Krediet: UNIST Een onderzoeksteam onder leiding van professor Joonki Suh van de afdeling Materials Science and Engineering en de ...